CrAlSi Alloy Sputtering ዒላማ ከፍተኛ ንፅህና ቀጭን ፊልም ፒቪዲ ሽፋን ብጁ የተሰራ
Chrome አሉሚኒየም ሲሊከን
Chronium አሉሚኒየም ሲሊከን ስፕትተር ዒላማ መግለጫ
የChronium አሉሚኒየም ሲሊኮን ስፕትተር ኢላማዎችን ማምረት የሚከተሉትን ደረጃዎች ያካትታል።
ደረጃ alloys ለማግኘት ሲሊከን, አሉሚኒየም እና Chronium መካከል 1.Vacuum መቅለጥ.
2.ዱቄት መፍጨት እና መቀላቀል.
የ Chromium አሉሚኒየም ሲሊከን ቅይጥ sputtering ዒላማ ለማግኘት 3.Hot isostatic በመጫን ሕክምና.
የChronium Aluminium Silicon Sputtering ዒላማዎች በመሳሪያዎች እና ሻጋታዎች ውስጥ በስፋት ጥቅም ላይ ይውላሉ, ይህም የመልበስ መቋቋም እና የፊልም አፈፃፀምን ለማሻሻል ከፍተኛ የሙቀት መጠን ያለው ኦክሳይድ መቋቋም ምክንያት ነው.
በCrAlSi ዒላማዎች PVD ሂደት ውስጥ የማይለዋወጥ Si3N4 ደረጃ ይመሰረታል።የ Amorphous Si3N4 ደረጃን በማካተት ምክንያት የእህል መጠን እድገቱ ሊገታ እና ከፍተኛ የሙቀት መጠን ያለው ኦክሳይድ መከላከያ ባህሪን ያሻሽላል።
ክሮኒየም አሉሚኒየም ሲሊኮን ስፕትተር ዒላማ ማሸግ
ቀልጣፋ መለያ እና የጥራት ቁጥጥርን ለማረጋገጥ የእኛ የChronium Aluminium Silicon sputter ኢላማ በግልፅ መለያ ተሰጥቷል እና በውጪ ተሰይሟል።በማጠራቀሚያ ወይም በማጓጓዝ ጊዜ ሊደርስ የሚችል ጉዳት እንዳይደርስ ከፍተኛ ጥንቃቄ ይደረጋል
እውቂያ ያግኙ
የአርኤስኤም ክሮኒየም አልሙኒየም ሲሊኮን መትረየስ ኢላማዎች እጅግ በጣም ከፍተኛ ንፅህና እና ወጥ ናቸው።በተለያዩ ቅርጾች, ንጽህናዎች, መጠኖች እና ዋጋዎች ይገኛሉ.ከፍተኛ ንፅህና ያለው ቀጭን የፊልም ሽፋን ቁሶችን በማምረት ላይ ያተኮረ እጅግ በጣም ጥሩ አፈጻጸም እንዲሁም በተቻለ መጠን ከፍተኛ መጠን ያለው ጥግግት እና በትንሹ በተቻለ መጠን አነስተኛ የአማካይ የእህል መጠን በሻጋታ ሽፋን፣ ማስጌጥ፣ አውቶሞቢል ክፍሎች፣ ዝቅተኛ-ኢ ብርጭቆ፣ ከፊል ኮንዳክተር የተቀናጀ ወረዳ፣ ቀጭን ፊልም ተቃውሞ፣ ግራፊክ ማሳያ፣ ኤሮስፔስ፣ መግነጢሳዊ ቀረጻ፣ የንክኪ ማያ ገጽ፣ ቀጭን ፊልም የፀሐይ ባትሪ እና ሌሎች አካላዊ የእንፋሎት ማስቀመጫ (PVD) መተግበሪያዎች።እባኮትን ለወቅታዊ የዋጋ አሰጣጥ ኢላማዎች እና ሌሎች ያልተዘረዘሩ የማስቀመጫ ቁሶች ላይ ጥያቄ ላኩልን።
