CrSi alloy sputtering ዒላማ ከፍተኛ ንፅህና ቀጭን ፊልም ፒቪዲ ሽፋን ብጁ የተሰራ

የChronium Silicon Sputtering ኢላማዎችን ማምረት የሚከተሉትን ደረጃዎች ያካትታል።
ደረጃ alloys ለማግኘት ሲልከን እና Chronium መካከል 1.Vacuum መቅለጥ.
2.ዱቄት መፍጨት, የታሸገ እና የማስወጣት.
በከፊል ያለቀላቸው ምርቶች ለማግኘት 3.Hot isostatic በመጫን ሕክምና.
የ Chromium-ሲሊከን ቅይጥ sputtering ዒላማ ቁሳዊ ለማግኘት ሻካራ Chromium-ሲሊከን ቅይጥ sputtering ዒላማ ቁሳዊ 4.Machining.

CrSi ብዙውን ጊዜ እንደ ከፍተኛ የመቋቋም ፊልም ቁሳቁስ ጥቅም ላይ ይውላል ፣ እሱ ከፍተኛ የመቋቋም ችሎታ ፣ መረጋጋት እና ዝቅተኛ የሙቀት መጠን የመቋቋም ችሎታ ያሳያል።Chronium እና Silicon እንደ Cr3Si፣ Cr5Si3፣፣ CrSi፣ CrSi2 ያሉ ብዙ የሲሊሳይድ ደረጃዎችን ሊፈጥሩ ይችላሉ።የ CrSi ፊልም የማምረት ሂደት, ቅንብር እና የሙቀት ሕክምና ሂደት አፈፃፀሙን በእጅጉ ይጎዳል.

የበለጸጉ ልዩ ቁሶች በደንበኞች መመዘኛዎች መሰረት የChronium Silicon sputtering Materials በማምረት ላይ ያተኮረ ነው።ለበለጠ መረጃ እባክዎን ያግኙን።